JP6728312B2 - Electroluminescent display - Google Patents

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Description

本発明は、電界発光表示装置に関し、さらに詳細には、光抽出効率および視野角を向上させることができる電界発光表示装置に関する。 The present invention relates to an electroluminescent display device, and more particularly, to an electroluminescent display device capable of improving light extraction efficiency and viewing angle.

最近、薄型や軽量、低消費電力といった優れた特性を有するフラットパネル表示装置(flat panel display)が開発され、様々な分野に採用されている。 2. Description of the Related Art Recently, flat panel displays having excellent characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption have been developed and used in various fields.

フラットパネル表示装置のうち、電界発光表示装置(electroluminescent display device)は、電子注入電極である陰極と正孔注入電極である陽極との間に形成された発光層に電荷を注入すると、電子と正孔が励起子を形成し、その後、該励起子が発光性再結合することで、光を放射する素子である。 BACKGROUND OF THE INVENTION Among flat panel display devices, an electroluminescent display device is a device that emits electrons and positive electrons when a charge is injected into a light emitting layer formed between a cathode, which is an electron injecting electrode, and an anode, which is a hole injecting electrode. The holes form excitons, and the excitons recombine radiatively to emit light.

このような電界発光表示装置は、プラスチックといったフレキシブルな基板上にも形成することができる上に、自己発光型であるため、コントラスト比が大きく、応答時間が数マイクロ秒(μs)程度であるため、動画像を表示する際に強みとなる。また、広い視野角を有し、低温においても安定的に駆動し、直流5V〜15Vの低電圧で駆動可能であるので、駆動回路の設計及び製造が容易であるというメリットを有する。 Since such an electroluminescent display device can be formed on a flexible substrate such as plastic and is self-luminous, it has a large contrast ratio and a response time of about several microseconds (μs). , Becomes an advantage when displaying moving images. Further, it has a wide viewing angle, can be stably driven even at a low temperature, and can be driven with a low voltage of DC 5V to 15V, so that there is an advantage that a drive circuit can be easily designed and manufactured.

図1は、従来の電界発光表示装置を概略的に示す断面図である。 FIG. 1 is a sectional view schematically showing a conventional light emitting display device.

図1に示すように、電界発光表示装置1は、基板10と、上記基板10上に位置する薄膜トランジスタTrと、前記基板10の上部に位置し、前記薄膜トランジスタTrに接続された発光ダイオードDを備え、発光ダイオードDの上部には、カプセル封止層(不図示)を形成することができる。 As shown in FIG. 1, the light emitting display device 1 includes a substrate 10, a thin film transistor Tr located on the substrate 10, and a light emitting diode D located on the substrate 10 and connected to the thin film transistor Tr. An encapsulation layer (not shown) may be formed on the light emitting diode D.

ここで、発光ダイオードDは、第1電極41、発光層42、第2電極43を含み、発光層42からの光が第2電極43を介して外部へ出射する。 Here, the light emitting diode D includes a first electrode 41, a light emitting layer 42, and a second electrode 43, and light from the light emitting layer 42 is emitted to the outside via the second electrode 43.

このように、発光層42から出射した光は、電界発光表示装置1の様々な構成要素を通って、電界発光表示装置1の上部方向へ出射することになる。 In this way, the light emitted from the light emitting layer 42 passes through various components of the electroluminescent display device 1 and is emitted in the upper direction of the electroluminescent display device 1.

ところが、金属と発光層42の境界で発生する表面プラズモン成分と、両側の反射層の内部に挿入された発光層42によって構成される光導波モードが、出射した光の60〜70%程度を占める。 However, the surface plasmon component generated at the boundary between the metal and the light emitting layer 42 and the optical waveguide mode constituted by the light emitting layers 42 inserted inside the reflecting layers on both sides occupy about 60 to 70% of the emitted light. ..

その結果、発光層42から出射した光のうち、電界発光表示装置1の外部へ出射するかわりに、電界発光表示装置1の内部に閉じ込められる光が存在し、電界発光表示装置1の光抽出効率が低下するという問題があった。 As a result, among the light emitted from the light emitting layer 42, there is light trapped inside the electroluminescent display device 1 instead of being emitted to the outside of the electroluminescent display device 1, and the light extraction efficiency of the electroluminescent display device 1 is increased. There was a problem that it decreased.

特開2007−173200JP2007-173200A

本発明は、発光ダイオードの下部に、互いに離隔した複数の金属パターンを配置し、複数の金属パターンを覆う反射電極を形成することで、光抽出効率および視野角を向上させた電界発光表示装置を提供することを目的とする。 The present invention provides an electroluminescent display device in which a plurality of metal patterns spaced apart from each other are arranged under a light emitting diode and a reflective electrode covering the plurality of metal patterns is formed to improve light extraction efficiency and a viewing angle. The purpose is to provide.

前述したような目的を達成するため、本発明は、基板の上部に配置される薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上部に配置される保護層と、前記保護層の上部に、互いに離隔して配置される複数の金属パターンと、前記複数の金属パターンおよび前記保護層の上面の形状に沿って配置され、複数の突出部を含む反射電極と、前記保護層および前記反射電極の上部に配置され、前記複数の突出部それぞれの上面を露出する開口部を含むオーバーコート層と、前記反射電極および前記オーバーコート層の上部に配置され、前記反射電極と電気的に接続される第1電極と、第1電極の上部に配置される発光層と、発光層の上部に配置される第2電極、を備える電界発光表示装置を提供する。 In order to achieve the above-described object, the present invention provides a thin film transistor disposed on a substrate, a protective layer disposed on the thin film transistor, and a protective layer disposed on the protective layer. A plurality of metal patterns, a plurality of metal patterns and a reflective electrode that is disposed along the shape of the upper surface of the protective layer, and includes a plurality of protruding portions; and a reflective electrode that is disposed on the protective layer and the reflective electrode. An overcoat layer including an opening exposing an upper surface of each of the protruding portions, a first electrode disposed on the reflective electrode and the overcoat layer, and electrically connected to the reflective electrode, and a first electrode. Provided is a light emitting display device including a light emitting layer disposed on the top of the light emitting layer and a second electrode disposed on the top of the light emitting layer.

本発明では、発光ダイオードの下部に、互いに離隔した形状に複数の金属パターンを配置し、複数の金属パターンを覆う反射電極を形成することで、光抽出効率を向上させると共に、視野角を改善することができる。 In the present invention, a plurality of metal patterns are arranged in a shape spaced apart from each other under the light emitting diode, and a reflective electrode is formed to cover the plurality of metal patterns to improve light extraction efficiency and improve a viewing angle. be able to.

一般的な電界発光表示装置を概略的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a general light emitting display device. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における1つのサブ画素領域を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing one sub-pixel region in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置を概略的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 図3におけるAの領域の拡大図である。It is an enlarged view of the area|region of A in FIG. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における光の経路を概略的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a light path in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置の金属パターンを概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a metal pattern of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置の金属パターンを概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a metal pattern of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置の金属パターンを概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a metal pattern of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における複数の金属パターンの離間距離による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to a distance between a plurality of metal patterns in the light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における複数の金属パターンの離間距離による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to a distance between a plurality of metal patterns in the light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における複数の金属パターンの離間距離による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to a distance between a plurality of metal patterns in the light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における複数の金属パターンの離間距離による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to a distance between a plurality of metal patterns in the light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における金属パターンの第2面と、第1および第2斜面が成す角度による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to an angle formed by a second surface of a metal pattern and first and second slopes in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における金属パターンの第2面と、第1および第2斜面が成す角度による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a light path according to an angle formed by a second surface of a metal pattern and first and second slopes in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る電界発光表示装置における金属パターンの第2面と、第1斜面および第2斜面が成す角度による光の経路を概略的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a light path according to an angle formed by a second surface of a metal pattern and a first slope and a second slope in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図2は、本発明の実施例に係る電界発光表示装置における1つのサブ画素領域を示す回路図である。 FIG. 2 is a circuit diagram showing one sub-pixel region in the light emitting display device according to the embodiment of the present invention.

図2に示すように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置は、互いに交差してサブ画素領域SPを定義するゲート配線GLおよびデータ配線DLを含み、それぞれのサブ画素領域SPには、スイッチング薄膜トランジスタTsと駆動薄膜トランジスタTd、ストレージキャパシタCst、そして発光ダイオードDが形成される。 As shown in FIG. 2, the light emitting display device according to the embodiment of the present invention includes a gate line GL and a data line DL that intersect with each other to define a sub-pixel region SP, and each sub-pixel region SP includes: A switching thin film transistor Ts, a driving thin film transistor Td, a storage capacitor Cst, and a light emitting diode D are formed.

さらに詳細に、スイッチング薄膜トランジスタTsのゲート電極は、ゲート配線GLに接続され、ソース電極は、データ配線DLに接続される。駆動薄膜トランジスタTdのゲート電極は、スイッチング薄膜トランジスタTsのドレイン電極に接続され、ソース電極は、高電位電圧VDDに接続される。発光ダイオードDのアノードは、駆動薄膜トランジスタTdのドレイン電極に接続され、カソードは、低電位電圧VSSに接続される。ストレージキャパシタCstは、駆動薄膜トランジスタTdのゲート電極およびドレイン電極に接続される。 More specifically, the gate electrode of the switching thin film transistor Ts is connected to the gate line GL, and the source electrode is connected to the data line DL. The gate electrode of the driving thin film transistor Td is connected to the drain electrode of the switching thin film transistor Ts, and the source electrode is connected to the high potential voltage VDD. The anode of the light emitting diode D is connected to the drain electrode of the driving thin film transistor Td, and the cathode is connected to the low potential voltage VSS. The storage capacitor Cst is connected to the gate electrode and the drain electrode of the driving thin film transistor Td.

かかる電界発光表示装置が映像を表示する動作を説明すると、ゲート配線GLを介して印加されたゲート信号によってスイッチング薄膜トランジスタTsがオンになると、データ配線DLからのデータ信号がスイッチング薄膜トランジスタTsを介して駆動薄膜トランジスタTdのゲート電極およびストレージキャパシタCstの一電極に印加される。 The operation of displaying an image by the electroluminescent display device will be described. When the switching thin film transistor Ts is turned on by the gate signal applied through the gate line GL, the data signal from the data line DL is driven through the switching thin film transistor Ts. The voltage is applied to the gate electrode of the thin film transistor Td and one electrode of the storage capacitor Cst.

駆動薄膜トランジスタTdは、データ信号によってオンになり、発光ダイオードDを流れる電流を制御して映像を表示する。発光ダイオードDは、駆動薄膜トランジスタTdを介して供給される高電位電圧VDDの電流によって発光する。 The driving thin film transistor Td is turned on by a data signal and controls a current flowing through the light emitting diode D to display an image. The light emitting diode D emits light by the current of the high potential voltage VDD supplied via the driving thin film transistor Td.

すなわち、発光ダイオードDを流れる電流の量は、データ信号の大きさに比例し、発光ダイオードDが放射する光の強度は、発光ダイオードDを流れる電流の量に比例するので、サブ画素領域SPは、データ信号のサイズによって異なる階調を表示し、その結果、電界発光表示装置は、映像を表示する。 That is, the amount of current flowing through the light emitting diode D is proportional to the magnitude of the data signal, and the intensity of light emitted by the light emitting diode D is proportional to the amount of current flowing through the light emitting diode D. , Different gradations are displayed depending on the size of the data signal, and as a result, the electroluminescent display device displays an image.

ストレージキャパシタCstは、スイッチング薄膜トランジスタ(Ts)がオフにされると、フレームのデータ信号に対応する電荷を維持する。したがって、スイッチング薄膜トランジスタTsがオフにされても、ストレージキャパシタCstは、発光ダイオードDを流れる電流の量を一定にし、発光ダイオードDで表示される階調を次のフレームまで一定に維持する。 The storage capacitor Cst maintains a charge corresponding to a frame data signal when the switching thin film transistor (Ts) is turned off. Therefore, even if the switching thin film transistor Ts is turned off, the storage capacitor Cst keeps the amount of current flowing through the light emitting diode D constant and keeps the gradation displayed by the light emitting diode D constant until the next frame.

一方、サブ画素領域SPには、スイッチング薄膜トランジスタTsと駆動薄膜トランジスタTd、そしてストレージキャパシタCstの他、別のトランジスタおよび/またはキャパシタをさらに形成してもよい。 On the other hand, in the sub-pixel region SP, another transistor and/or capacitor may be further formed in addition to the switching thin film transistor Ts, the driving thin film transistor Td, and the storage capacitor Cst.

図3は、本発明の実施例に係る電界発光表示装置を概略的に示す断面図である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図3に示すように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、第1基板110、薄膜トランジスタ120、複数の金属パターンMP、反射電極RE、オーバーコート層160、発光ダイオードDを備えることができる。 As shown in FIG. 3, the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention includes a first substrate 110, a thin film transistor 120, a plurality of metal patterns MP, a reflective electrode RE, an overcoat layer 160, and a light emitting diode D. You can

本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、発光層142からの光が第2電極143を介して外部へ出射するトップエミッションタイプを示しているが、これに限定されるものではない。 The light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention shows a top emission type in which light from the light emitting layer 142 is emitted to the outside through the second electrode 143, but is not limited thereto.

本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、第1基板110上に、ゲート電極121、アクティブ層122、ソース電極123およびドレイン電極124を含む薄膜トランジスタ120を備えることができる。 The light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention may include the thin film transistor 120 including the gate electrode 121, the active layer 122, the source electrode 123, and the drain electrode 124 on the first substrate 110.

具体的に、第1基板110上に、薄膜トランジスタ120のゲート電極121およびゲート絶縁膜131を配置することができる。 Specifically, the gate electrode 121 and the gate insulating film 131 of the thin film transistor 120 may be disposed on the first substrate 110.

そして、ゲート絶縁膜131上には、ゲート電極121と重なるアクティブ層122を配置することができる。 Then, the active layer 122 that overlaps the gate electrode 121 can be disposed on the gate insulating film 131.

また、アクティブ層122上には、アクティブ層122のチャネル領域を保護するためのエッチストッパー132を配置することができる。 In addition, an etch stopper 132 may be disposed on the active layer 122 to protect the channel region of the active layer 122.

そして、アクティブ層122上には、アクティブ層122に接触するソース電極123およびドレイン電極124を配置することができる。 Then, the source electrode 123 and the drain electrode 124 that are in contact with the active layer 122 may be disposed on the active layer 122.

本発明の実施例を適用できる電界発光表示装置は、図3に限定されない。第1基板110とアクティブ層122との間に配置されるバッファー層をさらに備えてもよく、エッチストッパー132を備えなくてもよい。 The light emitting display device to which the embodiment of the present invention can be applied is not limited to that shown in FIG. A buffer layer may be further provided between the first substrate 110 and the active layer 122, and the etch stopper 132 may not be provided.

一方、説明の便宜上、電界発光表示装置100に備えられ得る様々な薄膜トランジスタのうち、駆動薄膜トランジスタのみを示しており、薄膜トランジスタ120は、アクティブ層122を基準にして、ゲート電極121がソース電極123およびドレイン電極124の反対側に位置する逆スタガ構造、若しくはボトムゲート構造であるとして説明したが、これは一例である。アクティブ層122を基準にして、ゲート電極121が、ソース電極123およびドレイン電極124と同一側に位置する共面構造(coplanar)、若しくはトップゲート構造の薄膜トランジスタであってもよい。 On the other hand, for convenience of description, only a driving thin film transistor is shown among various thin film transistors that may be included in the light emitting display device 100. In the thin film transistor 120, the gate electrode 121 is a source electrode 123 and a drain is based on the active layer 122. Although it has been described that the structure is the inverted stagger structure or the bottom gate structure located on the opposite side of the electrode 124, this is an example. The gate electrode 121 may be a thin film transistor having a coplanar structure or a top gate structure in which the gate electrode 121 is located on the same side as the source electrode 123 and the drain electrode 124 based on the active layer 122.

また、ドレイン電極124およびソース電極123上には、保護層133を配置することができる。 In addition, a protective layer 133 can be provided on the drain electrode 124 and the source electrode 123.

ここで、保護層133により、薄膜トランジスタ120の上部が平坦化されるものと示したが、保護層133は、薄膜トランジスタ120の上部を平坦化させず、下部に位置する構成要素の表面形状に沿って配置されてもよい。 Here, although it is shown that the upper portion of the thin film transistor 120 is flattened by the protective layer 133, the protective layer 133 does not flatten the upper portion of the thin film transistor 120 and follows the surface shape of the component located in the lower portion. It may be arranged.

そして、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100の発光領域EAにおける保護層133の上部には、互いに離隔した金属パターンMPを複数配置することができる。 In addition, a plurality of metal patterns MP, which are spaced apart from each other, may be disposed on the protective layer 133 in the light emitting area EA of the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention.

すなわち、発光領域EAには、互いに離隔した複数の金属パターンMPを配置することができ、複数の金属パターンMPの間から保護層133が露出され得る。 That is, in the light emitting area EA, a plurality of metal patterns MP that are separated from each other may be disposed, and the protective layer 133 may be exposed between the plurality of metal patterns MP.

ここで、発光領域EAとは、第1電極141および第2電極143によって発光層142が発光する領域を意味する。 Here, the light emitting area EA means an area where the light emitting layer 142 emits light by the first electrode 141 and the second electrode 143.

そして、複数の金属パターンMPのそれぞれは、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、チタニウム(Ti)若しくはこれらの合金からなる単層、または多層で形成することができるが、これに限定されるものではない。 Further, each of the plurality of metal patterns MP can be formed as a single layer or a multilayer made of copper (Cu), molybdenum (Mo), titanium (Ti), or an alloy thereof, but is not limited thereto. is not.

また、複数の金属パターンMPの断面は、台形形状であってもよいが、これに限定されるものではない。 Further, the cross sections of the plurality of metal patterns MP may have a trapezoidal shape, but are not limited to this.

ここで、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、複数の金属パターンMPおよび保護層133の上面形状に沿って、反射電極REを配置することができる。 Here, in the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention, the reflective electrode RE may be arranged along the top shapes of the plurality of metal patterns MP and the protective layer 133.

言い換えると、反射電極REは、複数の金属パターンMPの形状に沿って、複数の突出部PPを形成することができる。 In other words, the reflective electrode RE can form the plurality of protrusions PP along the shapes of the plurality of metal patterns MP.

ここで、複数の突出部PPそれぞれの上面は、平坦に形成することができる。 Here, the upper surface of each of the plurality of protrusions PP may be formed flat.

そして、反射電極REは、APC合金からなり得るが、これに限定されるものではない。 The reflective electrode RE may be made of APC alloy, but is not limited thereto.

ここで、APC合金とは、銀(Ag)、パラジウム(Pd)および銅(Cu)の合金を意味する。 Here, the APC alloy means an alloy of silver (Ag), palladium (Pd) and copper (Cu).

また、反射電極REは、保護層133に形成されたコンタクトホールを介し、薄膜トランジスタ120のソース電極123に接続することができる。しかしながら、これに限定されるものではなく、反射電極REの上部の第1電極141が、薄膜トランジスタ120のソース電極123に接続されることもできる。 In addition, the reflective electrode RE can be connected to the source electrode 123 of the thin film transistor 120 via a contact hole formed in the protective layer 133. However, the present invention is not limited to this, and the first electrode 141 on the reflective electrode RE may be connected to the source electrode 123 of the thin film transistor 120.

本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、N型薄膜トランジスタを例に挙げて、反射電極REがソース電極123に接続されることに説明したが、これに限定されるものではなく、薄膜トランジスタ120がP型薄膜トランジスタである場合、反射電極REがドレイン電極124に接続されてもよい。 Although the light emitting display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention has been described with the N-type thin film transistor as an example, the reflective electrode RE is connected to the source electrode 123, but the present invention is not limited thereto. When 120 is a P-type thin film transistor, the reflective electrode RE may be connected to the drain electrode 124.

そして、反射電極REは、画素領域毎に分離して形成することができる。 The reflective electrode RE can be formed separately for each pixel region.

複数の金属パターンMPおよび反射電極REの形状については、後でさらに詳しく説明する。 The shapes of the plurality of metal patterns MP and the reflective electrode RE will be described in more detail later.

保護層133および反射電極REの上部には、オーバーコート層160を配置することができる。 An overcoat layer 160 may be disposed on the protective layer 133 and the reflective electrode RE.

ここで、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100におけるオーバーコート層160は、複数の開口部160aを含むことができる。 Here, the overcoat layer 160 in the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention may include a plurality of openings 160a.

ここで、複数の開口部160aのそれぞれは、反射電極REにおける複数の突出部PPのそれぞれに対応して形成することができる。 Here, each of the plurality of openings 160a can be formed corresponding to each of the plurality of protrusions PP in the reflective electrode RE.

すなわち、オーバーコート層160は、複数の金属パターンMPが離隔した領域に対応する反射電極REの上部に形成することができ、反射電極REにおける複数の突出部PPそれぞれの上面は、オーバーコート層160の開口部160aに位置し、第1電極141に接触することができる。 That is, the overcoat layer 160 may be formed on the reflective electrode RE corresponding to a region in which the plurality of metal patterns MP are spaced apart from each other, and the upper surface of each of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE may be formed on the upper surface of the overcoat layer 160. The first electrode 141 can be in contact with the first electrode 141.

その結果、開口部160aを介して露出された反射電極REの上面およびオーバーコート層160の上面は、段差を有することなく、平坦に形成できる。すなわち、反射電極REの露出された上面は、オーバーコート層160の上面と同一面であってもよい。 As a result, the upper surface of the reflective electrode RE exposed through the opening 160a and the upper surface of the overcoat layer 160 can be formed flat without any step. That is, the exposed upper surface of the reflective electrode RE may be flush with the upper surface of the overcoat layer 160.

ここで、反射電極REにおける複数の突出部PPそれぞれの上面を露出する開口部160aを含むオーバーコート層160は、フォトリソグラフィ、ウェットエッチング、ドライエッチングといった工程で形成することができる。 Here, the overcoat layer 160 including the opening 160a exposing the upper surface of each of the plurality of protrusions PP in the reflective electrode RE can be formed by a process such as photolithography, wet etching, or dry etching.

そして、オーバーコート層160は、概ね1.5ないし1.55の屈折率を有する有機物質からなり得るが、これに限定されるものではない。 The overcoat layer 160 may be made of an organic material having a refractive index of about 1.5 to 1.55, but is not limited thereto.

一方、オーバーコート層160、および開口部160aを介して露出された反射電極REの上部に、第1電極141を配置することができる。 On the other hand, the first electrode 141 may be disposed on the overcoat layer 160 and the reflective electrode RE exposed through the opening 160a.

そして、オーバーコート層160、および開口部160aを介して露出された反射電極REの上部に配置された第1電極141は、平坦に形成することができ、サブ画素領域毎に分離して形成することもできるが、これに限定されるものではない。 Further, the overcoat layer 160 and the first electrode 141 disposed above the reflective electrode RE exposed through the opening 160a can be formed flat and are formed separately for each sub-pixel region. However, the present invention is not limited to this.

ここで、第1電極141は、発光層142に電子若しくは正孔のうち、1つを供給するためのアノードであってもよく、カソードであってもよい。 Here, the first electrode 141 may be an anode or a cathode for supplying one of electrons or holes to the light emitting layer 142.

本発明の実施例に係る電界発光表示装置の第1電極141がアノードである場合を例に挙げ、説明する。 The case where the first electrode 141 of the light emitting display according to the embodiment of the present invention is an anode will be described as an example.

ここで、第1電極141は、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ZTO(Zinc Tin Oxide)、SnO(Tin Oxide)、ZnO(Zinc Oxide)、In(Indium Oxide)、GITO(Gallium Indium Tin Oxide)、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)、ZITO(Zinc Indium Tin Oxide)、IGO(Indium Gallium Oxide)、Ga(Gallium Oxide)、AZO(Aluminum Zinc Oxide)、またはGZO(Gallium Zinc Oxide)からなる群から選択されるいずれか1つを含むことができる。 Here, the first electrode 141 includes ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZTO (Zinc Tin Oxide), SnO 2 (Tin Oxide), ZnO (Zinc Oxide), In 2 O 3 (Indium Oxide). ), GITO (Galium Indium Tin Oxide), IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide), ZITO (Zinc Indium Tin Oxide), IGO (Indium Gallium Oxide), Ga 2 OZ (Oudium Oxide), Ga 2 O 3 (AuO) (Galium Oxide). It may include any one selected from the group consisting of GZO (Gallium Zinc Oxide).

そして、第1電極141は、反射電極REにおける複数の突出部PPの上面に接触することができる。 Then, the first electrode 141 can contact the upper surfaces of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE.

それにより、第1電極141と反射電極REにおける複数の突出部PPが接触する領域では、マイクロキャビティ効果を得ることができる。 Thereby, the microcavity effect can be obtained in the region where the first electrode 141 and the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE are in contact with each other.

また、第1電極141は、導電性物質を介し、発光層142に接して電気的に接続されることもできる。 Further, the first electrode 141 may be in contact with and electrically connected to the light emitting layer 142 via a conductive material.

ここで、第1電極141は、概ね1.8以上の屈折率を有することができるが、これに限定されるものではない。 Here, the first electrode 141 may have a refractive index of approximately 1.8 or more, but is not limited thereto.

そして、オーバーコート層160および第1電極141上に、バンク層136を配置することができる。 Then, the bank layer 136 can be disposed on the overcoat layer 160 and the first electrode 141.

また、バンク層136は、第1電極141を露出させる開口136aを含むことができる。 In addition, the bank layer 136 may include an opening 136a exposing the first electrode 141.

ここで、バンク層136は、隣接する画素(またはサブ画素)領域間に配置されて、隣接する画素(またはサブ画素)領域間を区切る役割をすることもできる。 Here, the bank layer 136 may be disposed between the adjacent pixel (or sub-pixel) regions and may serve to partition the adjacent pixel (or sub-pixel) regions.

そして、バンク層136は、1.6以下の屈折率を有するフォトアクリル系有機物質で形成することができるが、これに限定されるものではない。 Further, the bank layer 136 may be formed of a photoacrylic organic material having a refractive index of 1.6 or less, but is not limited thereto.

そして、第1電極141およびバンク層136の上部には、発光層142を配置することができる。 The light emitting layer 142 may be disposed on the first electrode 141 and the bank layer 136.

発光層142は、白色光を発光するため、複数の発光層が積層された(tandem white)構造にすることができる。 The light emitting layer 142 emits white light, and thus may have a tandem white structure in which a plurality of light emitting layers are stacked.

例えば、発光層142は、青色光を発光する第1発光層と、第1発光層上に配置され、青色と混合されて白色になる色の光を発光する第2発光層を含むことができる。 For example, the light emitting layer 142 may include a first light emitting layer that emits blue light and a second light emitting layer that is disposed on the first light emitting layer and that emits light of a color that becomes white when mixed with blue light. ..

ここで、第2発光層は、黄緑色光を発光する発光層であり得る。 Here, the second light emitting layer may be a light emitting layer that emits yellow-green light.

一方、発光層142は、青色光、赤色光、緑色光のうち、1つを発光する発光層のみを含むこともできる。 Meanwhile, the light emitting layer 142 may include only a light emitting layer that emits one of blue light, red light, and green light.

そして、発光層142は、発光領域EAにおいて、第1電極141の形状(morphology)に沿った形で配置することができる。 In addition, the light emitting layer 142 may be disposed in the light emitting area EA so as to follow the shape of the first electrode 141.

すなわち、発光領域EAにおいて、発光層142を平坦に形成することができる。 That is, the light emitting layer 142 can be formed flat in the light emitting region EA.

ここで、発光層142は、概ね1.8以上の屈折率を有する有機物質で形成することができるが、これに限定されるものではなく、量子ドットのような無機発光物資であってもよい。 Here, the light emitting layer 142 may be formed of an organic material having a refractive index of approximately 1.8 or more, but is not limited thereto and may be an inorganic light emitting material such as a quantum dot. ..

一方、発光層142上に、発光層142に電子若しくは正孔のうち、1つを供給するための第2電極143を配置することができる。 Meanwhile, a second electrode 143 for supplying one of electrons or holes to the light emitting layer 142 may be disposed on the light emitting layer 142.

ここで、第2電極143は、アノードであってもよく、カソードであってもよい。 Here, the second electrode 143 may be an anode or a cathode.

本発明の実施例に係る電界発光表示装置100の第2電極143がカソードである場合を例に挙げ、説明する。 The case where the second electrode 143 of the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention is a cathode will be described as an example.

第2電極143は、光を透過させることができるITO、IZOのような透明な金属物質(TCO、Transparent Conductive Material)からなってもよく、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、またはマグネシウム(Mg)と銀(Ag)の合金のような半透過金属物質(Semi−transmissive Conductive Material)からなってもよい。 The second electrode 143 may be made of a transparent metal material (TCO, Transparent Conductive Material), such as ITO or IZO, which can transmit light, and may be made of magnesium (Mg), silver (Ag), or magnesium (Mg). ) And a silver (Ag) alloy, such as a semi-transmissive conductive material.

ここで、第2電極143は、発光層142の形状(morphology)に沿った形で配置することができる。 Here, the second electrode 143 may be arranged along the shape of the light emitting layer 142.

すなわち、発光領域EAにおいて、第2電極143は、平坦に形成することができる。 That is, in the light emitting area EA, the second electrode 143 can be formed flat.

このように、第1電極141、発光層142および第2電極143は、発光ダイオードDを構成する。 Thus, the first electrode 141, the light emitting layer 142, and the second electrode 143 form the light emitting diode D.

そして、第2電極143上には、封止層(不図示)を形成することができ、第1基板110の封止層(不図示)と第2基板(不図示)を接着して、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100を具現化することができる。 Then, a sealing layer (not shown) can be formed on the second electrode 143, and the sealing layer (not shown) of the first substrate 110 and the second substrate (not shown) are bonded to form a book. The light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention may be embodied.

ここで、第2基板には、カラーフィルター(不図示)およびブラックマトリクス(不図示)を形成することもできる。 Here, a color filter (not shown) and a black matrix (not shown) may be formed on the second substrate.

図4は、図3におけるAの領域の拡大図である。 FIG. 4 is an enlarged view of the area A in FIG.

図4に示すように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、保護層133上に、複数の金属パターンMP、反射電極RE、オーバーコート層160、第1電極141、発光層142および第2電極143を配置することができる。 As shown in FIG. 4, the electroluminescent display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of metal patterns MP, a reflective electrode RE, an overcoat layer 160, a first electrode 141, and a light emitting layer 142 on the protective layer 133. And the second electrode 143 can be arranged.

言い換えると、発光領域EAにおける保護層133の上部には、互いに離隔した複数の金属パターンMPを配置することができる。 In other words, a plurality of metal patterns MP that are separated from each other may be disposed on the protective layer 133 in the light emitting area EA.

ここで、複数の金属パターンMPのそれぞれは、突出部PPの上面P1に接触する第1面M1と、保護層133に接触する第2面M2と、第1面M1と第2面M2を連結する第1斜面M3および第2斜面M4とを含むことができる。 Here, each of the plurality of metal patterns MP connects the first surface M1 that contacts the upper surface P1 of the protrusion PP, the second surface M2 that contacts the protective layer 133, and the first surface M1 and the second surface M2. The first slope M3 and the second slope M4 may be included.

ここで、第1面M1および第2面M2は、平坦に形成することができ、第1面M1の面積より第2面M2の面積を大きくすることができる。 Here, the first surface M1 and the second surface M2 can be formed flat, and the area of the second surface M2 can be made larger than the area of the first surface M1.

そして、第2面M2と、第1斜面M3および第2斜面M4が成す角度(θ)は、鋭角であり得る。 The angle (θ) formed by the second surface M2 and the first slope M3 and the second slope M4 may be an acute angle.

ここで、鋭角は、20°ないし70°であり得るが、これに限定されるものではない。 Here, the acute angle may be 20° to 70°, but is not limited thereto.

すなわち、複数の金属パターンMPのそれぞれは、その断面が台形形状であり得るが、これに限定されるものではない。 That is, each of the plurality of metal patterns MP may have a trapezoidal cross section, but is not limited thereto.

そして、複数の金属パターンMPは、離間距離Gを置いて配置することができる。 Then, the plurality of metal patterns MP can be arranged with a separation distance G.

したがって、複数の金属パターンMPが離隔した領域には、保護層133が露出され得る。すなわち、保護層133は、隣接する金属パターンMPの間の領域に露出することができる。 Therefore, the protective layer 133 may be exposed in a region where the plurality of metal patterns MP are separated. That is, the protective layer 133 may be exposed in a region between the adjacent metal patterns MP.

ここで、複数の金属パターンMPの離間距離Gは、0.5μmないし2μmであり得るが、これに限定されるものではない。 Here, the separation distance G between the plurality of metal patterns MP may be 0.5 μm to 2 μm, but is not limited thereto.

そして、複数の金属パターンMPそれぞれの第1面M1の長さdは、1μmないし5μmであり得るが、これに限定されるものではない。 The length d of the first surface M1 of each of the plurality of metal patterns MP may be 1 μm to 5 μm, but is not limited thereto.

また、複数の金属パターンMPそれぞれの高さHは、0.5μmないし1μmであり得るが、これに限定されるものではない。 The height H of each of the plurality of metal patterns MP may be 0.5 μm to 1 μm, but is not limited thereto.

ここで、金属パターンMPの高さHとは、第1面M1と第2面M2との間の距離を意味する。 Here, the height H of the metal pattern MP means the distance between the first surface M1 and the second surface M2.

そして、複数の金属パターンMPのそれぞれは、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、チタニウム(Ti)若しくはこれらの合金からなる単層、または多層で形成することができるが、これに限定されるものではない。 Further, each of the plurality of metal patterns MP can be formed as a single layer or a multilayer made of copper (Cu), molybdenum (Mo), titanium (Ti), or an alloy thereof, but is not limited thereto. is not.

ここで、本発明の実施例に係る電界発光表示装置100は、複数の金属パターンMPおよび保護層133の上面形状に沿って、反射電極REを配置することができる。 Here, in the light emitting display device 100 according to the embodiment of the present invention, the reflective electrode RE may be arranged along the top shapes of the plurality of metal patterns MP and the protective layer 133.

すなわち、反射電極REは、複数の金属パターンMPおよび保護層133の上面形状に沿って、複数の突出部PPおよび当該複数の突出部PPを連結する連結部CPを含むことができる。 That is, the reflective electrode RE may include a plurality of protruding portions PP and a connecting portion CP that connects the plurality of protruding portions PP along the top surfaces of the plurality of metal patterns MP and the protective layer 133.

そして、複数の突出部PPのそれぞれは、第1電極141に接触する上面P1、上面P1と連結部CPを連結する側面P2、P3を含むことができる。本発明の実施例において、複数の突出部PPそれぞれの上面P1および側面P2、P3は、それぞれ上面部P1および側面部P2、P3と称することができ、互いに入れ替えることもできる。 Each of the plurality of protrusions PP may include an upper surface P1 that contacts the first electrode 141 and side surfaces P2 and P3 that connect the upper surface P1 and the connecting portion CP. In the embodiment of the present invention, the upper surface P1 and the side surfaces P2, P3 of each of the plurality of protruding portions PP may be referred to as the upper surface portion P1 and the side surface portions P2, P3, respectively, and may be interchanged with each other.

ここで、側面P2、P3は、所定の傾斜を有することができる。 Here, the side surfaces P2 and P3 may have a predetermined inclination.

そして、連結部CPは、複数の突出部PPの間に配置され、保護層133に接触することができる。 The connection part CP may be disposed between the plurality of protrusions PP and may contact the protective layer 133.

ここで、複数の突出部PPそれぞれの上面P1および連結部CPは、平坦に形成することができる。言い換えると、反射電極REは、互いに高さの異なる平坦な上面P1と平坦な連結部CPを交互に配置することができる。 Here, the upper surface P1 and the connecting portion CP of each of the plurality of protruding portions PP can be formed flat. In other words, in the reflective electrode RE, the flat upper surface P1 and the flat connecting portion CP having different heights can be alternately arranged.

このように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、保護層133の上部に互いに離隔した複数の金属パターンMPを配置し、保護層133および複数の金属パターンMPを覆う反射電極REを形成することで、互いに高さの異なる突出部PPの平坦な上面P1と平坦な連結部CPが交互に配置され、突出部PPの平坦な上面P1と平坦な連結部CPを連結する傾斜した側面P2、P3を有する反射電極REを形成することができる。 As described above, the light emitting display device according to the embodiment of the present invention (100 in FIG. 3) includes the plurality of metal patterns MP spaced apart from each other on the protection layer 133, and the protection layer 133 and the plurality of metal patterns MP. By forming the reflective electrode RE covering the flat surface P1, the flat upper surfaces P1 and the flat connecting portions CP of the projecting portions PP having different heights are alternately arranged, and the flat upper surface P1 of the projecting portions PP and the flat connecting portion CP are arranged. It is possible to form the reflective electrode RE having the inclined side surfaces P2 and P3 that connect with each other.

そして、保護層133および反射電極REの上部には、オーバーコート層160を配置することができる。 Then, the overcoat layer 160 may be disposed on the protective layer 133 and the reflective electrode RE.

ここで、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)のオーバーコート層160は、反射電極REにおける複数の突出部PPそれぞれの上面P1を露出させる開口部160aを含むことができる。 Here, the overcoat layer 160 of the light emitting display device (100 in FIG. 3) according to the embodiment of the present invention may include an opening 160a exposing the upper surface P1 of each of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE. it can.

すなわち、オーバーコート層160が反射電極REにおける複数の突出部PPの間を埋めることで、反射電極REと第1電極141とは、オーバーコート層160の開口部160aを介して電気的に接続され、オーバーコート層160は、反射電極REの上部を平坦化する。 That is, the overcoat layer 160 fills the spaces between the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE, so that the reflective electrode RE and the first electrode 141 are electrically connected to each other through the opening 160 a of the overcoat layer 160. The overcoat layer 160 planarizes the upper portion of the reflective electrode RE.

また、オーバーコート層160は、概ね1.5ないし1.55の屈折率を有する有機物質からなり得るが、これに限定されるものではない。 Also, the overcoat layer 160 may be made of an organic material having a refractive index of about 1.5 to 1.55, but is not limited thereto.

そして、反射電極REおよびオーバーコート層160の上部に、第1電極141を配置することができる。 Then, the first electrode 141 may be disposed on the reflective electrode RE and the overcoat layer 160.

第1電極141は、概ね1.8以上の屈折率を有する非晶質金属酸化物(amorphous metal oxide)からなり得るが、これに限定されるものではない。 The first electrode 141 may include, but is not limited to, an amorphous metal oxide having a refractive index of about 1.8 or more.

第1電極141は、反射電極REおよびオーバーコート層160の上部に、平坦に配置することができる。 The first electrode 141 may be flatly disposed on the reflective electrode RE and the overcoat layer 160.

したがって、第1電極141は、反射電極REにおける複数の突出部PPの上面P1に接触することができ、反射電極REの側面P2、P3および連結部CPには、接触しないことができる。 Therefore, the first electrode 141 can contact the upper surfaces P1 of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE, and can not contact the side surfaces P2 and P3 of the reflective electrode RE and the connecting portion CP.

その結果、第1電極141と反射電極REにおける複数の突出部PPの上面P1が接触する領域では、マイクロキャビティが発生し得る。 As a result, a microcavity may occur in a region where the first electrode 141 and the upper surfaces P1 of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE are in contact with each other.

マイクロキャビティとは、反射電極RE、第1電極141(アノード電極)、発光層142、第2電極143(カソード電極)からなる発光ダイオードDで、各電極および発光層142の厚さを適宜調節し、光の多重反射によって発光スペクトルを変化させることを言う。 The microcavity is a light emitting diode D including a reflective electrode RE, a first electrode 141 (anode electrode), a light emitting layer 142, and a second electrode 143 (cathode electrode), and the thickness of each electrode and the light emitting layer 142 is appropriately adjusted. , Changing the emission spectrum by multiple reflections of light.

そして、第1電極141の上部には、発光層142を配置することができ、発光領域(図3のEA)における発光層142を平坦に形成することができる。 Further, the light emitting layer 142 may be disposed on the first electrode 141, and the light emitting layer 142 in the light emitting region (EA in FIG. 3) may be formed flat.

ここで、発光層142は、概ね1.8以上の屈折率を有する有機物質で形成することができるが、これに限定されるものではなく、量子ドットのような無機発光物資であってもよい。 Here, the light emitting layer 142 may be formed of an organic material having a refractive index of approximately 1.8 or more, but is not limited thereto and may be an inorganic light emitting material such as a quantum dot. ..

一方、発光層142の上部に、第2電極143を配置することができ、発光領域(図3のEA)における第2電極143を平坦に形成することができる。 On the other hand, the second electrode 143 can be disposed on the light emitting layer 142, and the second electrode 143 in the light emitting region (EA in FIG. 3) can be formed flat.

このように、第1電極141、発光層142および第2電極143は、発光ダイオードDを構成する。 Thus, the first electrode 141, the light emitting layer 142, and the second electrode 143 form the light emitting diode D.

ここで、発光ダイオードDは、発光領域EAにおいて平坦に形成することができる。 Here, the light emitting diode D can be formed flat in the light emitting area EA.

かかる構造にすることにより、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、第1電極141と、反射電極REにおける複数の突出部PPの上面P1が接触するマイクロキャビティ領域(Micro Cavity Area:MCA)において、マイクロキャビティ効果を利用して光抽出効率および色の再現率を高めることができる。 With such a structure, in the electroluminescent display device (100 of FIG. 3) according to the embodiment of the present invention, the microcavity region where the first electrode 141 and the upper surfaces P1 of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE are in contact with each other. In (Micro Cavity Area: MCA), the light extraction efficiency and color reproducibility can be enhanced by utilizing the microcavity effect.

そして、第1電極141と接触しない反射電極REにおける複数の突出部PPの側面P2、P3および連結部CPに該当する、マイクロキャビティが発生しない領域である非マイクロキャビティ領域(Non−Micro Cavity Area:NMCA)においては、発光ダイオードDの内部で全反射して外部へ出射できなかった光を、上部へ反射させて外部へ抽出できるようにすることで、光抽出効率をさらに向上させることができる。特に、非マイクロキャビティ領域(NMCA)では、反射電極REの形状に沿って出射する光の直進性が減少し、側面方向へ光が出射するので、従来のマイクロキャビティ効果が適用された電界発光表示装置において、視野角が増加するにつれて発生する輝度減少および長波長から短波長へ色がシフトするカラーシフトを効果的に改善することができる。 Then, the non-micro cavity area (Non-Micro Cavity Area) corresponding to the side surfaces P2 and P3 of the plurality of protrusions PP and the connecting portion CP in the reflective electrode RE that does not contact the first electrode 141 is a non-micro cavity area (Non-Micro Cavity Area: In the NMCA), the light extraction efficiency can be further improved by reflecting the light that is totally reflected inside the light emitting diode D and cannot be emitted to the outside to be extracted to the outside. Particularly, in the non-microcavity area (NMCA), the straightness of the light emitted along the shape of the reflective electrode RE is reduced and the light is emitted in the lateral direction, so that the conventional microcavity-effect applied electroluminescence display is used. In the device, it is possible to effectively improve the brightness reduction and the color shift in which the color shifts from the long wavelength to the short wavelength, which occurs as the viewing angle increases.

図5は、本発明の実施例に係る電界発光表示装置における光の経路を概略的に示す図面である。図4を共に参照して説明する。 FIG. 5 is a diagram schematically illustrating a light path in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Description will be made with reference to FIG.

図5に示すように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、第1電極141と反射電極REにおける複数の突出部PPの上面P1が接触するマイクロキャビティ領域(MCA)同士の間に、第1電極141と接触しない反射電極REの側面P2、P3および連結部CPに該当する非マイクロキャビティ領域(NMCA)を含むことができる。 As shown in FIG. 5, in the electroluminescent display device (100 of FIG. 3) according to the embodiment of the present invention, the microcavity region (the upper surface P1 of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE is in contact with the first electrode 141 ( A non-microcavity area (NMCA) corresponding to the side surfaces P2 and P3 of the reflective electrode RE and the connecting portion CP that are not in contact with the first electrode 141 may be included between the MCAs.

マイクロキャビティ領域(MCA)でマイクロキャビティ効果を利用して外部へ出射する光L1と、非マイクロキャビティ領域(NMCA)で反射電極REの側面P2、P3および連結部CPによって反射され、上部へ出射する光L2が混合されて、光抽出効率が向上すると共に、視野角が改善される。 The light L1 emitted to the outside by utilizing the microcavity effect in the microcavity region (MCA) and the light L1 reflected by the side surfaces P2 and P3 of the reflective electrode RE and the connecting portion CP in the non-microcavity region (NMCA) and emitted to the upper part. The light L2 is mixed to improve the light extraction efficiency and the viewing angle.

すなわち、非マイクロキャビティ領域(NMCA)では、反射電極REの形状に沿って出射する光の直進性が減少し、側面方向へ光が出射するので、従来のマイクロキャビティ効果が適用された電界発光表示装置において、視野角が増加するにつれて発生する輝度減少および長波長から短波長へ色がシフトするカラーシフトを効果的に改善することができる。 That is, in the non-microcavity area (NMCA), the straightness of the light emitted along the shape of the reflective electrode RE is reduced and the light is emitted in the lateral direction, so that the conventional electroluminescence display to which the microcavity effect is applied is applied. In the device, it is possible to effectively improve the brightness reduction and the color shift in which the color shifts from the long wavelength to the short wavelength, which occurs as the viewing angle increases.

図6Aないし図6Cは、本発明の実施例に係る電界発光表示装置の金属パターンを概略的に示す平面図である。 6A through 6C are plan views schematically showing metal patterns of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

図6Aないし図6Cに示すように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、保護層133の上部に複数の金属パターンMPを配置することができる。 As shown in FIGS. 6A to 6C, the light emitting display device (100 of FIG. 3) according to the embodiment of the present invention may include a plurality of metal patterns MP on the protective layer 133.

すなわち、図6Aに示すように、複数の金属パターンMPのそれぞれは、平面的に四角形状を有することができ、複数の金属パターンMPそれぞれを、互いに離隔して配置することができ、複数の金属パターンMPが離隔した空間に保護層133を露出することができる。 That is, as shown in FIG. 6A, each of the plurality of metal patterns MP may have a quadrangular shape in a plan view, and each of the plurality of metal patterns MP may be arranged apart from each other. The protective layer 133 may be exposed in the space separated by the pattern MP.

また、図6Bに示すように、複数の金属パターンMPのそれぞれは、平面的に六角形状を有し、複数の金属パターンMPそれぞれを、互いに離隔して配置することができ、複数の金属パターンMPが離隔した空間に保護層133を露出することができる。 Further, as shown in FIG. 6B, each of the plurality of metal patterns MP has a hexagonal shape in plan view, and each of the plurality of metal patterns MP can be arranged apart from each other. The protective layer 133 may be exposed in a space separated from each other.

そして、図6Cに示すように、複数の金属パターンMPのそれぞれは、平面的に円形状を有し、複数の金属パターンMPそれぞれを、互いに離隔して配置することができ、複数の金属パターンMPが離隔した空間に保護層133を露出することができる。 Then, as shown in FIG. 6C, each of the plurality of metal patterns MP has a circular shape in plan view, and each of the plurality of metal patterns MP can be arranged apart from each other. The protective layer 133 may be exposed in a space separated from each other.

ここで、図6Aないし図6Cに示す複数の金属パターンMPの平面的な形状は一例であって、これに限定されるものではない。複数の金属パターンMPのそれぞれは、平面的に様々な形状を有することができる。 Here, the planar shapes of the plurality of metal patterns MP shown in FIGS. 6A to 6C are examples, and the present invention is not limited thereto. Each of the plurality of metal patterns MP may have various planar shapes.

図7Aないし図7Dは、本発明の実施例に係る電界発光表示装置における複数の金属パターンの離間距離による光の経路を概略的に示す図面である。図4を共に参照して説明する。 7A to 7D are views schematically showing light paths according to a distance between a plurality of metal patterns in an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Description will be made with reference to FIG.

ここで、図7Aないし図7Dの電界発光表示装置(図3の100)における複数の金属パターンMPそれぞれの第2面M2と、前記第1斜面M3および前記第2斜面M4が成す角度(θ)は、30°で同一であり、複数の金属パターンMPの離間距離Gの変化による光の経路を示している。 Here, the angle (θ) formed between the second surface M2 of each of the plurality of metal patterns MP and the first slope M3 and the second slope M4 in the electroluminescent display device (100 of FIG. 3) of FIGS. 7A to 7D. Are the same at 30°, and show the paths of light due to changes in the separation distance G of the plurality of metal patterns MP.

図7Aは、複数の金属パターンMPの離間距離Gが0.5μmである場合における光の経路を示しており、図7Bは、複数の金属パターンMPの離間距離Gが1μmである場合における光の経路を示している。そして、図7Cは、複数の金属パターンMPの離間距離Gが1.5μmである場合における光の経路を示しており、図7Dは、複数の金属パターンMPの離間距離Gが2μmである場合における光の経路を示している。 FIG. 7A shows a light path when the separation distance G of the plurality of metal patterns MP is 0.5 μm, and FIG. 7B shows light paths when the separation distance G of the plurality of metal patterns MP is 1 μm. Shows the route. 7C shows a light path when the separation distance G of the plurality of metal patterns MP is 1.5 μm, and FIG. 7D shows a case where the separation distance G of the plurality of metal patterns MP is 2 μm. The path of light is shown.

図7Aないし図7Dを比較すると、図7Cに示す、複数の金属パターンMPの離間距離Gが1.5μmである場合における光抽出効率が最も高いことが分かる。 Comparing FIGS. 7A to 7D, it can be seen that the light extraction efficiency is highest when the distance G between the plurality of metal patterns MP shown in FIG. 7C is 1.5 μm.

すなわち、第1電極141に接触しない反射電極REにおける複数の突出部PPの側面P2、P3および連結部CPに該当する非マイクロキャビティ領域(NMCA)において、発光ダイオードDの内部で全反射して外部へ出射できなかった光を、反射電極REの連結部CPの形状に沿って上部へ反射させ、外部へ最も多く抽出することができる。 That is, in the non-microcavity area (NMCA) corresponding to the side surfaces P2 and P3 of the plurality of protrusions PP and the connection portion CP in the reflective electrode RE that does not contact the first electrode 141, the light is internally reflected from the inside of the light emitting diode D. The light that could not be emitted to the upper part can be reflected to the upper part along the shape of the connecting part CP of the reflective electrode RE and can be extracted most to the outside.

また、マイクロキャビティ領域と非マイクロキャビティ領域の割合を、1:1ないし5:1に、好ましくは1:1に形成して光抽出効率を向上させると共に、視野角による輝度減少およびカラーシフト現象を効果的に改善することができる。 In addition, the ratio of the microcavity region to the non-microcavity region is set to 1:1 to 5:1, preferably 1:1 to improve the light extraction efficiency and to reduce the brightness and color shift phenomenon depending on the viewing angle. Can be effectively improved.

したがって、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、複数の金属パターンMPの離間距離Gを1.5μmに形成し、光抽出効率をさらに向上できるようになる。 Therefore, in the light emitting display device (100 in FIG. 3) according to the embodiment of the present invention, the separation distance G between the plurality of metal patterns MP is set to 1.5 μm, and the light extraction efficiency can be further improved.

図8Aないし図8Cは、本発明の実施例に係る電界発光表示装置の金属パターンの第2面と、第1および第2斜面が成す角度による光の経路を概略的に示す図面である。図4を共に参照して説明する。 8A to 8C are schematic views illustrating a light path according to an angle formed between a second surface of a metal pattern and first and second slopes of an electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Description will be made with reference to FIG.

図8Aは、金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が30°である場合における光の経路を示しており、図8Bは、金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が450°である場合における光の経路を示しており、また、図8Cは、金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が60°である場合における光の経路を示している。 FIG. 8A shows a light path when the angle (θ) formed by the second surface M2 of the metal pattern MP and the first and second slopes M3 and M4 is 30°, and FIG. 8B shows the metal pattern. 8C shows the path of light when the angle (θ) formed by the second surface M2 of MP and the first and second slopes M3 and M4 is 450°, and FIG. 8C shows the second pattern of the metal pattern MP. The light path when the angle (θ) formed by the surface M2 and the first and second slopes M3 and M4 is 60° is shown.

図8Aないし図8Cを比較すると、図8Aおよび図8Bに示す、金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が30°および45°である場合における光抽出効率が高いことが分かる。金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が60°である場合は、光抽出効率が多少減少することが分かる。 Comparing FIGS. 8A to 8C, the angles (θ) formed by the second surface M2 of the metal pattern MP and the first and second inclined surfaces M3 and M4 shown in FIGS. 8A and 8B are 30° and 45°. It can be seen that the light extraction efficiency in each case is high. It can be seen that when the angle (θ) formed by the second surface M2 of the metal pattern MP and the first and second slopes M3 and M4 is 60°, the light extraction efficiency is slightly reduced.

すなわち、金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)が30°および45°である場合、第1電極141に接触しない反射電極REにおける複数の突出部PPの側面P2、P3および連結部CPに該当する非マイクロキャビティ領域(NMCA)において、発光ダイオードDの内部で全反射して外部へ出射できなかった光を上部へ反射させ、外部へ最も多く抽出することができる。 That is, when the angle (θ) formed between the second surface M2 of the metal pattern MP and the first and second inclined surfaces M3 and M4 is 30° and 45°, a plurality of reflective electrodes RE that do not contact the first electrode 141 are formed. In the non-microcavity area (NMCA) corresponding to the side surfaces P2, P3 of the protruding portion PP and the connecting portion CP, the light that is totally reflected inside the light emitting diode D and cannot be emitted to the outside is reflected to the upper side, and is reflected to the outside most. Many can be extracted.

したがって、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、複数の金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)を、30°ないし45°に形成する場合、光抽出効率をさらに向上できるようになる。 Therefore, in the electroluminescent display device (100 of FIG. 3) according to the embodiment of the present invention, the angle (θ) formed by the second surface M2 of the plurality of metal patterns MP and the first and second slopes M3 and M4 is When it is formed at 30° to 45°, the light extraction efficiency can be further improved.

このように、本発明の実施例に係る電界発光表示装置(図3の100)は、第1電極141と、反射電極REにおける複数の突出部PPの上面P1が接触するマイクロキャビティ領域(MCA)において、マイクロキャビティ効果を利用し、光抽出効率および色の再現率を高めることができる。 As described above, in the electroluminescent display device (100 of FIG. 3) according to the embodiment of the present invention, the microcavity area (MCA) where the first electrode 141 and the upper surfaces P1 of the plurality of protrusions PP of the reflective electrode RE are in contact with each other. In, the microcavity effect can be utilized to increase the light extraction efficiency and the color reproduction rate.

さらに、第1電極141に接触しない反射電極REにおける複数の突出部PPの側面P2、P3および連結部CPに該当する非マイクロキャビティ領域(NMCA)では、発光ダイオードDの内部で全反射して外部へ出射できなかった光を上部へ反射させ、外部へ抽出できるようになり、光抽出効率をさらに向上させると共に、マイクロキャビティ領域(MCA)で出射する光(図5のL1)と、非マイクロキャビティ領域(NMCA)で出射する光(図5のL2)の混合によって、視野角を向上させることができる。 Further, in the non-microcavity region (NMCA) corresponding to the side surfaces P2, P3 of the plurality of protrusions PP and the connecting portion CP in the reflective electrode RE not in contact with the first electrode 141, the light is totally reflected inside the light emitting diode D and the outside. The light that could not be emitted to the upper part can be reflected to the upper part and extracted to the outside, further improving the light extraction efficiency, and the light (L1 in FIG. 5) emitted in the microcavity area (MCA) and the non-microcavity. The viewing angle can be improved by mixing the light (L2 in FIG. 5) emitted in the region (NMCA).

すなわち、非マイクロキャビティ領域(NMCA)においては、反射電極REの形状に沿って出射する光の直進性が減少し、側面方向へ光が出射するので、従来のマイクロキャビティ効果が適用された電界発光表示装置において、視野角が増加するにつれて発生する輝度減少および長波長から短波長へ色がシフトする現象を効果的に改善できるようになる。 That is, in the non-microcavity region (NMCA), the straightness of the light emitted along the shape of the reflective electrode RE is reduced, and the light is emitted in the lateral direction, so that the conventional electroluminescence using the microcavity effect is applied. In the display device, it is possible to effectively improve the phenomenon that the brightness decreases as the viewing angle increases and the phenomenon that the color shifts from the long wavelength to the short wavelength.

特に、複数の金属パターンMPの離間距離Gを1.5μmに形成し、複数の金属パターンMPの第2面M2と、第1および第2斜面M3、M4が成す角度(θ)を、30°ないし45°に形成して、視野角増加による輝度減少およびカラーシフト現象をさらに効果的に改善することができる。 In particular, the separation distance G of the plurality of metal patterns MP is formed to be 1.5 μm, and the angle (θ) formed by the second surface M2 of the plurality of metal patterns MP and the first and second slopes M3 and M4 is 30°. The brightness can be reduced and the color shift phenomenon can be improved more effectively by increasing the viewing angle.

以上、上記では、好適な実施例を参照して説明したが、当該技術分野における当業者であれば、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想および領域から逸脱しない範囲内で、本発明を様々に修正および変更できることを理解できるであろう。 Although the above description has been made with reference to the preferred embodiments, a person skilled in the art can, within the scope not departing from the technical idea and the scope of the present invention described in the claims, It will be appreciated that various modifications and variations of the present invention can be made.

1. 基板の上部に配置される薄膜トランジスタと、
薄膜トランジスタの上部に配置される保護層と、
保護層の上部に互いに離隔して配置される複数の金属パターンと、
複数の金属パターンおよび保護層の上面の形状に沿って配置され、複数の突出部を含む反射電極と、
保護層および反射電極の上部に配置され、複数の突出部それぞれの上面を露出する開口部を含むオーバーコート層と、
反射電極およびオーバーコート層の上部に配置され、反射電極と電気的に接続される第1電極と、
第1電極の上部に配置される発光層と、
発光層の上部に配置される第2電極と、を備える電界発光表示装置。
1. A thin film transistor arranged on the upper part of the substrate,
A protective layer disposed on top of the thin film transistor,
A plurality of metal patterns spaced apart from each other on the protective layer,
A reflecting electrode that is arranged along the shape of the upper surfaces of the plurality of metal patterns and the protective layer and that includes a plurality of protrusions;
An overcoat layer that is disposed on the protective layer and the reflective electrode and that includes an opening that exposes the upper surface of each of the plurality of protrusions;
A first electrode disposed on the reflective electrode and the overcoat layer and electrically connected to the reflective electrode;
A light emitting layer disposed on the first electrode,
An electroluminescent display device comprising: a second electrode disposed on the light emitting layer.

2. 複数の金属パターンのそれぞれは、複数の突出部それぞれの上面部に接触する第1面と、保護層に接触して第1面より面積の大きい第2面と、第1面と第2面を連結する第1斜面および第2斜面を含む、上記1に記載の電界発光表示装置。 2. Each of the plurality of metal patterns includes a first surface that contacts the upper surface of each of the plurality of protrusions, a second surface that contacts the protective layer and has a larger area than the first surface, and a first surface and a second surface. 2. The electroluminescent display device according to 1 above, which includes a first slope and a second slope to be connected.

3. 複数の金属パターンの離間距離は、0.5μmないし2μmである、上記1に記載の電界発光表示装置。 3. 2. The electroluminescent display device according to 1, wherein the plurality of metal patterns have a separation distance of 0.5 μm to 2 μm.

4. 複数の金属パターンの高さは、0.5μmないし1μmである、上記1に記載の電界発光表示装置。 4. The electroluminescent display device of claim 1, wherein the height of the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 1 μm.

5. 第1面の長さは、1μmないし5μmである、上記2に記載の電界発光表示装置。 5. 3. The electroluminescent display device according to 2, wherein the first surface has a length of 1 μm to 5 μm.

6. 第2面と、第1斜面および第2斜面が成す角度は、20°ないし70°である、上記2に記載の電界発光表示装置。 6. 3. The electroluminescent display device according to 2, wherein an angle formed by the second surface and the first slope and the second slope is 20° to 70°.

7. 第1電極、発光層および第2電極は、発光領域において平坦に配置される、上記2に記載の電界発光表示装置。 7. 3. The electroluminescent display device according to 2 above, wherein the first electrode, the light emitting layer and the second electrode are arranged flat in a light emitting region.

8. 反射電極は、薄膜トランジスタと電気的に接続される、上記1に記載の電界発光表示装置。 8. 2. The electroluminescent display device according to 1, wherein the reflective electrode is electrically connected to the thin film transistor.

9. 第1電極は、薄膜トランジスタと電気的に接続される、上記1に記載の電界発光表示装置。 9. The electroluminescent display device according to 1, wherein the first electrode is electrically connected to the thin film transistor.

10. 1つ以上の画素を含む基板と、
画素のそれぞれに配置され、第2電極と反射電極、および第2電極と反射電極の間に配置された発光層を含むか、若しくは第2電極と反射電極、第2電極と反射電極の間に配置された発光層、および発光層と反射電極の間に配置された第1電極を含む発光構造を備え、
画素のそれぞれは、互いに離隔して配置された複数のマイクロキャビティ領域と、マイクロキャビティ領域間に配置された1つ以上の非マイクロキャビティ領域を含み、
マイクロキャビティ領域において、反射電極から第2電極まで、発光構造の垂直方向に沿って結合された厚さは、非マイクロキャビティ領域における結合された厚さとは異なり、
発光構造は、マイクロキャビティ効果を生成するように構成されて、
第2電極と反射電極のそれぞれは、マイクロキャビティ領域において平坦となるように形成され、第2電極と反射電極のうち、少なくとも1つは、非マイクロキャビティ領域において非平坦面を有するように形成されるか、
若しくは第1電極と第2電極、および反射電極のそれぞれは、マイクロキャビティ領域において平坦となるように形成されて、第1電極と第2電極、および反射電極のうち、少なくとも1つは、非マイクロキャビティ領域において非平坦面を有するように形成される、電界発光表示装置。
10. A substrate including one or more pixels,
Each pixel includes a second electrode and a reflective electrode, and a light emitting layer disposed between the second electrode and the reflective electrode, or between the second electrode and the reflective electrode, or between the second electrode and the reflective electrode. A light emitting structure including a light emitting layer disposed and a first electrode disposed between the light emitting layer and the reflective electrode,
Each of the pixels includes a plurality of microcavity regions spaced apart from each other and one or more non-microcavity regions disposed between the microcavity regions,
In the microcavity region, the combined thickness from the reflective electrode to the second electrode along the vertical direction of the light emitting structure is different from the combined thickness in the non-microcavity region,
The light emitting structure is configured to create a microcavity effect,
Each of the second electrode and the reflective electrode is formed to be flat in the microcavity region, and at least one of the second electrode and the reflective electrode is formed to have a non-flat surface in the non-microcavity region. Ruka,
Alternatively, each of the first electrode, the second electrode, and the reflective electrode is formed to be flat in the microcavity region, and at least one of the first electrode, the second electrode, and the reflective electrode is non-micro. A light emitting display device formed to have a non-flat surface in a cavity region.

11. マイクロキャビティ領域において、反射電極から第2電極まで、発光構造の垂直方向に沿って結合された厚さは、非マイクロキャビティ領域における結合された厚さより小さい値を有する、上記10に記載の電界発光表示装置。 11. The electroluminescent device according to claim 10, wherein a combined thickness of the reflective electrode and the second electrode along the vertical direction of the light emitting structure has a value smaller than a combined thickness of the non-microcavity region in the microcavity region. Display device.

12. 複数のマイクロキャビティ領域のそれぞれは、1つの画素または各画素において、互いに離隔するように配置される円形、矩形、正方形、菱形、六角形、若しくは他の多角形状を有するように形成される、上記10に記載の電界発光表示装置。 12. Each of the plurality of microcavity regions is formed to have a circular shape, a rectangular shape, a square shape, a rhombic shape, a hexagonal shape, or another polygonal shape which is arranged so as to be spaced apart from each other in one pixel or each pixel. 10. The electroluminescent display device according to 10.

13. 反射電極は、非マイクロキャビティ領域内で発光層側への斜面を含む、上記10に記載の電界発光表示装置。 13. 11. The electroluminescent display device as described in 10 above, wherein the reflective electrode includes an inclined surface facing the light emitting layer in the non-microcavity region.

14. 複数のマイクロキャビティ領域のそれぞれは、基板の水平方向に1μmないし5μm範囲の長さを有する、上記10に記載の電界発光表示装置。 14. The electroluminescent display device of claim 10, wherein each of the plurality of microcavity regions has a length in the range of 1 μm to 5 μm in the horizontal direction of the substrate.

15. 反射電極は、発光層側への少なくとも2つの斜面と、マイクロキャビティ領域において、発光層に平行な1つの平坦面を含む、上記13に記載の電界発光表示装置。 15. 14. The electroluminescent display device according to 13 above, wherein the reflective electrode includes at least two slopes toward the light emitting layer and one flat surface parallel to the light emitting layer in the microcavity region.

16. マイクロキャビティ領域において、反射電極の平坦面は、1μmないし5μmの長さを有する、上記15に記載の電界発光表示装置。 16. 16. The electroluminescent display device as described in 15, wherein the flat surface of the reflective electrode has a length of 1 μm to 5 μm in the microcavity region.

17. 斜面と基板の水平方向との間に形成される角度は、20°ないし70°である、上記15に記載の電界発光表示装置。 17. 16. The light emitting display device according to 15, wherein an angle formed between the inclined surface and the horizontal direction of the substrate is 20° to 70°.

18. 第1電極の反対側の反射電極の一側に配置される保護層と、
反射電極と保護層の間において、互いに離隔して配置される複数の金属パターンと、
第1電極と反射電極の間に配置されるオーバーコート層をさらに備える、上記10に記載の電界発光表示装置。
18. A protective layer disposed on one side of the reflective electrode opposite to the first electrode;
Between the reflective electrode and the protective layer, a plurality of metal patterns arranged apart from each other,
11. The electroluminescent display device as described in 10 above, further comprising an overcoat layer disposed between the first electrode and the reflective electrode.

19. 複数の金属パターンのそれぞれは、マイクロキャビティ領域において、反射電極の上面部と接触する第1面と、保護層と接触して第1面より広い面積を有する第2面、そして第1面と第2面を連結する第1斜面および第2斜面を含む、上記18に記載の電界発光表示装置。 19. In the microcavity region, each of the plurality of metal patterns has a first surface in contact with the upper surface of the reflective electrode, a second surface in contact with the protective layer and having a larger area than the first surface, and a first surface and a second surface. 19. The light emitting display device according to 18, which includes a first slope and a second slope that connect two surfaces.

20. 複数の金属パターンのうち、隣接した2つの間の距離は、0.5μmないし2μmである、上記18に記載の電界発光表示装置。 20. 19. The electroluminescent display device of 18, wherein a distance between two adjacent metal patterns is 0.5 μm to 2 μm.

21. 複数の金属パターンの高さは、0.5μmないし1μmである、上記18に記載の電界発光表示装置。 21. 19. The electroluminescent display device according to 18, wherein the height of the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 1 μm.

22. 第1面の長さは、1μmないし5μmである、上記19に記載の電界発光表示装置。 22. 20. The electroluminescent display device according to 19, wherein the first surface has a length of 1 μm to 5 μm.

23. 第2面と、第1斜面および第2斜面のそれぞれとの間に形成される角度は、20°ないし70°である、上記19に記載の電界発光表示装置。 23. 20. The electroluminescent display device according to 19, wherein an angle formed between the second surface and each of the first slope and the second slope is 20° to 70°.

100…電界発光表示装置、110…基板、120…薄膜トランジスタ、121…ゲート電極、122…アクティブ層、123…ソース電極、124…ドレイン電極、131…ゲート絶縁膜、132…エッチストッパー、133…保護層、136…バンク、136a…開口、141…第1電極、142…発光層、143…第2電極、160…オーバーコート層、160a…開口部、RE…反射電極、MP…金属パターン、PP…突出部、D…発光ダイオード、EA…発光領域 100... Electroluminescence display device, 110... Substrate, 120... Thin film transistor, 121... Gate electrode, 122... Active layer, 123... Source electrode, 124... Drain electrode, 131... Gate insulating film, 132... Etch stopper, 133... Protective layer Reference numeral 136... Bank, 136a... Opening, 141... First electrode, 142... Light emitting layer, 143... Second electrode, 160... Overcoat layer, 160a... Opening part, RE... Reflective electrode, MP... Metal pattern, PP... Projection Section, D... Light emitting diode, EA... Light emitting region

Claims (23)

基板の上部に配置される薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上部に配置される保護層と、
前記保護層の上部に互いに離隔して配置される複数の金属パターンと、
前記複数の金属パターンおよび前記保護層の上面の形状に沿って配置され、複数の突出部を含む反射電極と、
前記保護層および前記反射電極の上部に配置され、前記複数の突出部それぞれの上面を露出する開口部を含むオーバーコート層と、
前記反射電極および前記オーバーコート層の上部に配置され、前記反射電極と電気的に接続される第1電極と、
前記第1電極の上部に配置される発光層と、
前記発光層の上部に配置される第2電極と、を備える電界発光表示装置。
A thin film transistor arranged on the upper part of the substrate,
A protective layer disposed on the thin film transistor,
A plurality of metal patterns spaced apart from each other on the protective layer,
A reflective electrode that is arranged along the shape of the upper surfaces of the plurality of metal patterns and the protective layer and that includes a plurality of protrusions,
An overcoat layer disposed on the protective layer and the reflective electrode, the overcoat layer including an opening exposing the upper surface of each of the plurality of protrusions;
A first electrode disposed on the reflective electrode and the overcoat layer and electrically connected to the reflective electrode;
A light emitting layer disposed on the first electrode,
And a second electrode disposed on the light emitting layer.
前記複数の金属パターンのそれぞれは、前記複数の突出部それぞれの上面部に接触する第1面と、前記保護層に接触して前記第1面より面積の大きい第2面と、前記第1面と前記第2面を連結する第1斜面および第2斜面を含む、請求項1に記載の電界発光表示装置。 Each of the plurality of metal patterns has a first surface in contact with an upper surface of each of the plurality of protrusions, a second surface in contact with the protective layer and having a larger area than the first surface, and the first surface. The light emitting display device according to claim 1, further comprising a first slope and a second slope connecting the second slope and the second slope. 前記複数の金属パターンの離間距離は、0.5μmないし2μmである、請求項1に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 1, wherein a distance between the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 2 μm. 前記複数の金属パターンの高さは、0.5μmないし1μmである、請求項1に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 1, wherein the height of the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 1 μm. 前記第1面の長さは、1μmないし5μmである、請求項2に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 2, wherein the first surface has a length of 1 μm to 5 μm. 前記第2面と、前記第1斜面および前記第2斜面が成す角度は、20°ないし70°である、請求項2に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 2, wherein an angle formed by the second surface and the first slope and the second slope is 20° to 70°. 前記第1電極、前記発光層および前記第2電極は、発光領域において平坦に配置される、請求項2に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device according to claim 2, wherein the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are arranged flat in a light emitting region. 前記反射電極は、前記薄膜トランジスタと電気的に接続される、請求項1に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 1, wherein the reflective electrode is electrically connected to the thin film transistor. 前記第1電極は、前記薄膜トランジスタと電気的に接続される、請求項1に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 1, wherein the first electrode is electrically connected to the thin film transistor. 1つ以上の画素を含む基板と、
前記画素のそれぞれに配置され、第2電極と反射電極、および前記第2電極と前記反射電極の間に配置された発光層を含むか、若しくは第2電極と反射電極、前記第2電極と前記反射電極の間に配置された発光層、および前記発光層と前記反射電極の間に配置された第1電極を含む発光構造と、
前記発光層の反対側の前記反射電極の一側に配置される保護層と、
前記反射電極と前記保護層の間において、互いに離隔して配置される複数の金属パターンとを備え、
前記画素のそれぞれは、互いに離隔して配置された複数のマイクロキャビティ領域と、前記マイクロキャビティ領域間に配置された1つ以上の非マイクロキャビティ領域を含み、
前記マイクロキャビティ領域において、前記反射電極から前記第2電極まで、前記発光構造の垂直方向に沿って結合された厚さは、前記非マイクロキャビティ領域における結合された厚さとは異なり、
前記発光構造は、マイクロキャビティ効果を生成するように構成されて、
前記第2電極と前記反射電極のそれぞれは、前記マイクロキャビティ領域において平坦となるように形成され、前記第2電極と前記反射電極のうち、少なくとも1つは、前記非マイクロキャビティ領域において非平坦面を有するように形成されるか、
若しくは前記第1電極と前記第2電極、および前記反射電極のそれぞれは、前記マイクロキャビティ領域において平坦となるように形成されて、前記第1電極と前記第2電極、および前記反射電極のうち、少なくとも1つは、前記非マイクロキャビティ領域において非平坦面を有するように形成される、電界発光表示装置。
A substrate including one or more pixels,
Each of the pixels includes a second electrode and a reflective electrode, and a light emitting layer disposed between the second electrode and the reflective electrode, or a second electrode and a reflective electrode, the second electrode and the A light emitting structure including a light emitting layer disposed between reflective electrodes and a first electrode disposed between the light emitting layer and the reflective electrode;
A protective layer disposed on one side of the reflective electrode opposite to the light emitting layer ;
Between the reflective electrode and the protective layer, a plurality of metal patterns arranged apart from each other,
Each of the pixels includes a plurality of microcavity regions spaced apart from each other, and one or more non-microcavity regions disposed between the microcavity regions,
In the microcavity region, the combined thickness from the reflective electrode to the second electrode along the vertical direction of the light emitting structure is different from the combined thickness in the non-microcavity region,
The light emitting structure is configured to create a microcavity effect,
Each of the second electrode and the reflective electrode is formed to be flat in the microcavity region, and at least one of the second electrode and the reflective electrode has a non-flat surface in the non-microcavity region. Is formed to have
Alternatively, each of the first electrode, the second electrode, and the reflective electrode is formed to be flat in the microcavity region, and among the first electrode, the second electrode, and the reflective electrode, At least one is a light emitting display device having a non-flat surface in the non-microcavity region.
前記マイクロキャビティ領域において、前記反射電極から前記第2電極まで、前記発光構造の垂直方向に沿って結合された厚さは、前記非マイクロキャビティ領域における結合された厚さより小さい値を有する、請求項10に記載の電界発光表示装置。 In the microcavity region, the combined thickness from the reflective electrode to the second electrode along the vertical direction of the light emitting structure has a value smaller than the combined thickness in the non-microcavity region. 10. The electroluminescent display device according to 10. 前記複数のマイクロキャビティ領域のそれぞれは、1つの画素または各画素において、互いに離隔するように配置される円形、矩形、正方形、菱形、六角形、若しくは他の多角形状を有するように形成される、請求項10に記載の電界発光表示装置。 Each of the plurality of microcavity regions is formed to have a circular shape, a rectangular shape, a square shape, a rhombic shape, a hexagonal shape, or another polygonal shape which is arranged so as to be spaced apart from each other in one pixel or each pixel. The light emitting display device according to claim 10. 前記反射電極は、前記非マイクロキャビティ領域内で前記発光層側への斜面を含む、請求項10に記載の電界発光表示装置。 The electroluminescent display device according to claim 10, wherein the reflective electrode includes a slope toward the light emitting layer in the non-microcavity region. 前記複数のマイクロキャビティ領域のそれぞれは、前記基板の水平方向に1μmないし5μm範囲の長さを有する、請求項10に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 10, wherein each of the plurality of microcavity regions has a length in the range of 1 μm to 5 μm in the horizontal direction of the substrate. 前記反射電極は、前記発光層側への少なくとも2つの斜面と、前記マイクロキャビティ領域において、前記発光層に平行な1つの平坦面を含む、請求項13に記載の電界発光表示装置。 The electroluminescent display device according to claim 13, wherein the reflective electrode includes at least two slopes toward the light emitting layer and one flat surface parallel to the light emitting layer in the microcavity region. 前記マイクロキャビティ領域において、前記反射電極の平坦面は、1μmないし5μmの長さを有する、請求項15に記載の電界発光表示装置。 The electroluminescent display device of claim 15, wherein the flat surface of the reflective electrode in the microcavity region has a length of 1 μm to 5 μm. 前記斜面と前記基板の水平方向との間に形成される角度は、20°ないし70°である、請求項15に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 15, wherein an angle formed between the inclined surface and the horizontal direction of the substrate is 20° to 70°. 前記第1電極と前記反射電極の間に配置されるオーバーコート層をさらに備える、請求項10に記載の電界発光表示装置。 The electroluminescent display device of claim 10, further comprising an overcoat layer disposed between the first electrode and the reflective electrode. 前記複数の金属パターンのそれぞれは、前記マイクロキャビティ領域において、前記反射電極の上面部と接触する第1面と、前記保護層と接触して前記第1面より広い面積を有する第2面、そして前記第1面と前記第2面を連結する第1斜面および第2斜面を含む、請求項18に記載の電界発光表示装置。 Each of the plurality of metal patterns has a first surface in contact with the upper surface of the reflective electrode in the microcavity region, a second surface in contact with the protective layer and having a larger area than the first surface, and The light emitting display device of claim 18, further comprising a first slope and a second slope connecting the first surface and the second surface. 前記複数の金属パターンのうち、隣接した2つの間の距離は、0.5μmないし2μmである、請求項18に記載の電界発光表示装置。 The electroluminescent display device of claim 18, wherein a distance between two adjacent metal patterns of the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 2 μm. 前記複数の金属パターンの高さは、0.5μmないし1μmである、請求項18に記載の電界発光表示装置。 19. The light emitting display device of claim 18, wherein the height of the plurality of metal patterns is 0.5 μm to 1 μm. 前記第1面の長さは、1μmないし5μmである、請求項19に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 19, wherein the first surface has a length of 1 μm to 5 μm. 前記第2面と、前記第1斜面および前記第2斜面のそれぞれとの間に形成される角度は、20°ないし70°である、請求項19に記載の電界発光表示装置。 The light emitting display device of claim 19, wherein an angle formed between the second surface and each of the first slope and the second slope is 20° to 70°.
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